石部助教の論文がApplied Physics Letters (IF=3.495) に掲載されました。
おめでとうございます!!

“Resistive switching at the high quality metal/insulator interface in Fe3O4/SiO2/α-FeSi2/Si stacking structure”
Applied Physics Letters 113, 141601 (2018).
DOI: https://doi.org/10.1063/1.5048827