D3 谷口君のSiGe系ナノドット構造中のフォノン伝導に関する論文がNanoscale (IF=6.895)に掲載されました。
これは、阪大基礎工電子光科学領域の中村研究室と真田研究室との共同研究です。
おめでとうございます。

“Phonon transport in nano-system of Si and SiGe films with Ge nanodots and approach to ultralow thermal conductivity”

Nanoscale 13, 4971-4977 (2021). DOI: 10.1039/D0NR08499A