Geナノドットと極薄Si酸化膜による相乗的なフォノン散乱に関する論文がPhysical Review B （IF＝3.575）での掲載が許可されました。 これは、東京大学の塩見研究室との共同研究です。
 
“Synergistic phonon scattering in epitaxial silicon multilayers with germanium nanodot inclusions”,
Physical Review B 104, 054301 (2021).
DOI: 10.1103/PhysRevB.104.054301