石部助教の複雑結晶シリサイド薄膜における極小熱伝導率化に関する論文がApplied Physics Letters （IF＝3.597）での掲載が許可されました。 これは、筑波大学の末益研究室との共同研究です。
“Low thermal conductivity of complex thermoelectric barium silicide film epitaxially grown on Si”