準安定相2H-CaSi2に関する論文がApplied Physics Express （IF=2.819）に掲載されました。これは豊田中央研究所との共同研究です。
おめでとうございます！
“Growth of metastable 2H-CaSi2 films on Si (111) substrates with ultrathin SiO2 films by solid phase epitaxy”

DOI:https://doi.org/10.35848/1882-0786/ad0e24